光の利用効率を下げずに明るさ分布を均一にしてライン状パターンを描画する新しい光パターンLED照明を開発するための基本技術確立のため、MPA（マイクロプリズムアレイ）の設計技術、シミュレーション技術などを応用して、その試作、評価を行った。

課題

主力製品である「ホロライト・シリーズ」は境界線などを示すライン照明の他、さまざまな光パターンを形成できるが、ライン状パターンの明るさが不均一になる課題がある。この明るさのむらを低減させるために照明から照射される光の方向を複数のプリズムを使って制御し、明るさを均一化する基本技術を獲得したい。

プロジェクト概要

工業技術研究所の有するMPAの設計技術、光学シミュレーション技術、形状測定技術、光学特性評価技術を応用して、現行「ホロライト」の課題を解決する新しい光パターン形成LED照明を開発するための基本技術確立のため、ライン状パターンの中央部と周辺部の明るさが均一となるようなMPAを設計し、切削加工による２次の試作、照明性能評価を経て得られた試作MPAにより、オリジナルのホロライトラインと同等の総光量で、周辺部まで均一な明るさ分布を得られるライン状パターン投影が実現できることを実証した。

期待される効果

長期間の耐久性を必要とする環境における、明るさが均一で視認性が高く、狙った形状を正しく描画できる新しい光パターンLED照明の提供 他、新たな用途開拓。

関連した光技術

LED照明、光学シミュレーション、マイクロプリズムアレイ、照度計測